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  • 产品名称：重庆库存出售CVD设备日本ULVAC爱发科

  • 产品型号：CMD系列
  • 产品厂商：ULVAC爱发科
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简单介绍：
单晶片等离子CVD设备 CMD系列
详情介绍：

特征

  • 我们通过开发可在比传统工艺温度更高的温度下运行的每个单元的驱动系统和真空搬运机器人，实现了稳定的搬运系统。
  • 通过改进反应室内的结构和供气系统，可以获得长期稳定的TEOS（SiO 2 ）膜速率。
  • 通过对反应气体路径进行加热，可以将排除的设备以气体状态排出，不使用配管捕集器就可以抑制副产物附着在配管等上，可以缩短维护时间。
  • 可以容易地进行成膜条件等单独的基板管理。

采用

  • 低温P-Si、α-Si TFT

规格

CMD-450BHT CMD-650HT CMD-950 CMD-1500 CMD-1800
板尺寸（毫米） 400×500×t0.7 600×720×t0.7 730×920×t0.7～0.5 1300×1500×t0.7～0.4 1500×1800×t0.7～0.4
房间组成 1) 准备和拆除室 2 间客房
房间组成 2) 加热室 1 间
3) 反应室 4间（若有退火室则为3间） 5间（若有退火室则为4间）
4) 运输室 1间（七边形） 1间（八角形） 1间（七边形）
5) 真空排气系统
/制备/取出室
/反应室 		旋转 + Mekabu Dry + Mekabu 干 + mekabu
6) 移板机 选项
生产 65秒/张
（我们的标准条件SiN 300nm单层） 		75秒/张
（我们的标准条件
SiN 300nm单层） 		无加热室：65秒/张
有加热室：90秒/张
（我们的标准条件SiN 300nm单层）
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