
主营产品:
光学仪器、光学材料、实验仪器、手动工具、焊接工具、焊接材料、仪器仪表、静电设备、静电辅料、工业器材、气动元件、电工电气、测量工具、计量设备、气动工具、电动工具、化工设备、化工辅料、点胶设备、小型设备、储存设备、物流设备、工业安防、**防护、包装材料、切削工具、切削材料、办公设备、办公文 具、工装夹具、测试治具、机械加工。设备等。
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产品详情
简单介绍:
多室溅射设备 MLX TM -3000N 是一种用于半导体的薄膜沉积设备,可灵活响应各种工艺需求并实现高性价比。晶圆尺寸从 75 毫米到 200 毫米不等。
详情介绍:
特征
-
支持*大 200 mm 的电路板尺寸
-
通过消除污染和高精度温度控制来控制薄膜质量
-
灵活的工艺支持,如Al嵌入、厚膜、层压等。
采用
-
以半导体布线为中心的金属化
规格
模型
MLX TM -3000N
设备配置
运输系统
六角形真空转移室 x 1 间
模块
L / UL 室 x 2(或 L / UL 室 x 1 + 脱气室 x 1)+ *多 4 个工艺室
板尺寸
兼容Φ75mm~200mm
搬运机器人
双拾取真空搬运机器人
控制系统
电脑控制
采用
功率器件(正面和背面)、UBM、安装器件、异形板
排气系统
主排气
LL 室:干泵
输送室:涡轮分子泵
工艺室:低温泵
粗拉
干泵
可安装的工艺气体系统
多达 3 个系统
达到压力
输送室:1.3 E-4Pa
工艺室:1.0 E -5Pa
电
50Hz / 60Hz, 3Φ, 200V
冷却水
0.2-0.3MPa,温度20-25ºC,100L/min
所需气体
各种工艺气体:0.05-0.1MPa
N2气:0.05-0.1MPa
压缩的空气
0.55~0.75MPa
接地工作
A类接地
选项
Φ75mm~200mm晶圆可更换
快门机制
静电吸盘式基板加热机构
RGA:奎利
增加LL室涡轮分子泵
特征
- 支持*大 200 mm 的电路板尺寸
- 通过消除污染和高精度温度控制来控制薄膜质量
- 灵活的工艺支持,如Al嵌入、厚膜、层压等。
采用
- 以半导体布线为中心的金属化
规格
模型 | MLX TM -3000N | |
设备配置 | 运输系统 | 六角形真空转移室 x 1 间 |
模块 | L / UL 室 x 2(或 L / UL 室 x 1 + 脱气室 x 1)+ *多 4 个工艺室 | |
板尺寸 | 兼容Φ75mm~200mm | |
搬运机器人 | 双拾取真空搬运机器人 | |
控制系统 | 电脑控制 | |
采用 | 功率器件(正面和背面)、UBM、安装器件、异形板 | |
排气系统 | 主排气 |
LL 室:干泵 输送室:涡轮分子泵 工艺室:低温泵 |
粗拉 | 干泵 | |
可安装的工艺气体系统 | 多达 3 个系统 | |
达到压力 |
输送室:1.3 E-4Pa 工艺室:1.0 E -5Pa |
|
电 | 50Hz / 60Hz, 3Φ, 200V | |
冷却水 | 0.2-0.3MPa,温度20-25ºC,100L/min | |
所需气体 |
各种工艺气体:0.05-0.1MPa N2气:0.05-0.1MPa |
|
压缩的空气 | 0.55~0.75MPa | |
接地工作 | A类接地 | |
选项 | Φ75mm~200mm晶圆可更换 | |
快门机制 | ||
静电吸盘式基板加热机构 | ||
RGA:奎利 | ||
增加LL室涡轮分子泵 |