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  • 产品名称：密度等离子刻蚀设备日本ULVAC爱发科

  • 产品型号：NE-550EX
  • 产品厂商：ULVAC爱发科
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简单介绍：
蚀刻装置 研发用高 密度等离子刻蚀设备 NE-550EX
详情介绍：
蚀刻装置

研发用高
密度等离子刻蚀设备NE-550EX

NE-550EX研发用高密度等离子刻蚀设备标配磁场ICP（ISM=Inductively Super Magnetron）高密度等离子刻蚀设备和单片LL腔体作为标准设备，实现了紧凑的尺寸和低价...

特征

  • 借助磁场辅助，与其他 ICP 方法相比，可以产生低压、低电子温度和高密度等离子体，并且可以进行从离子蚀刻到自由基蚀刻的广泛等离子体控制，因此可用于各种工艺一个开发工具。
  • 配备“星形电极”以防止沉积物粘附在射频输入窗口上。此外，它还具有加热功能，是一种强调再现性和稳定性的设备概念。
  • 实现可靠性高的搬运机器人等研发工具的可靠性，装置结构简单，维护方便。
  • 可添加丰富的可选功能和卡带室。
  • NE-5700 和 NE-7800 的产品阵容可兼容由同一腔室组成的多个腔室，用于量产线。

采用

  • 复合材料（LED、LD、高频器件和功率器件）。
  • 电极加工、金属布线、有机薄膜、陶瓷加工等
  • 用于处理难以蚀刻的材料，例如铁电体、贵金属和磁性薄膜。
  • Nanoimprint、NEMS、MEMS、各种传感器。
  • 生物芯片、微流控器件、光子晶体等

规格

物品 规格
系统配置 研发/原型设备+负载锁定室
板尺寸 ~ 150 毫米
工作压力(Pa) 0.07 至 6.7
平面内和平面间均匀性 ± 3% *大值
板温控制 静电夹头
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