产品名称：日本OTSUKA大塚電子膜厚监测重庆代理

品信息

• 支持从薄到厚的广泛薄膜厚度
• 使用反射光谱的膜厚度分析
• 紧凑、低成本、非接触、无损、高精度测量
• 简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度
• 使用峰谷法、频率分析法、非线性*小二乘法、*优化法等，可以进行广泛的膜厚测量。
• 光学常数分析（n：折射率，k：消光系数）可以通过非线性*小二乘法的膜厚分析算法进行。

• 觉对反射率测量
• 薄膜厚度分析（10层）
• 光学常数分析（n：折射率，k：消光系数）

• 功能性薄膜、塑料
  透明导电薄膜（ITO、银纳米线）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、胶粘剂、粘合剂、保护膜、hard Coat、抗指纹代理等
• 半导体
  化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire等。
• 表面处理
  DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。
• 光学材料
  滤光片、增透膜等
• FPD
  LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机薄膜、密封胶）等
• 其他
  

• HDD、磁带、建材等

• 原则

  测量原理

  Otsuka Electronics 使用光学干涉仪和我们自己的高精度分光光度计实现非接触、非破坏性、高速和高精度的薄膜厚度测量。光学干涉测量法是一种利用光学系统使用分光光度计获得的反射率来确定光学膜厚度的方法，如图 2 所示。以镀在金属基材上的薄膜为例，如图1所示，从目标样品上方入射的光被薄膜表面反射（R1）。此外，透过薄膜的光在基板（金属）和薄膜界面（R2）处反射。测量此时因光程差引起的相移而引起的光学干涉现象，并根据得到的反射光谱和折射率计算膜厚的方法称为光学干涉法。分析方法有四种：峰谷法、频率分析法、非线性*小二乘法和优化法。

  

  规格

  规格

  测量波长范围	300-800nm
  测量膜厚范围 （SiO 2换算）	3纳米至35微米
  光斑直径	φ1.2mm
  样本量	φ200×5(H)mm
  测量时间	0.1至10秒内
  电源	AC100V±10% 300VA
  尺寸、重量	280（宽）x 570（深）x 350（高）毫米，24 公斤
  其他的	参考盘、菜谱制作服务

   

   

  软件画面

  

  销售中心-重庆内藤