概述

EllipsoStep 系统是目前*快的成像椭偏仪。EllipsoStep 可以在 4 秒内测量全分辨率椭圆图像（Psi、Delta、强度）。专门设计的光学组件使 EllipsoStep 系统能够使用从 250nm 到 1000nm 的扩展波长范围测量样品。

与速度明显较慢且需要插值算法来测量完整图像的传统归零椭圆偏振成像仪不同，EllipsoStep 可以快速直接地逐像素测量样品的椭圆偏振特性。

EllipsoStep 成像椭圆仪系统可以执行横向分辨率小于 1 um 的测量，这比使用微点技术的非常先进的传统椭圆仪小 50 倍。

EllipsoStep 系统使用各种光学附件，允许用户实时查看样品的显微图像，并且当与 Axometrics 的优异分析特性结合使用时，可以测量薄膜厚度和折射率等特性。与所有其他 Axometrics 测量系统一样，EllipsoStep 还包括各种可用的桌面、大型和生产测量夹具。

应用

EllipsoStep 系统允许逐点椭圆测绘，能够测量各种薄膜应用的厚度和折射率特性。包括
半导体：椭圆偏光法是半导体测量的当前行业标准。通过添加显微成像功能，用户可以更好地改进他们的制造流程。
LCD/OLED 显示器： LCD 和 OLED 显示器都使用薄膜沉积技术。Axometrics 目前可以利用我们在显示技术方面的经验，并将其应用于制造过程的这些部分。
聚合物：聚合物薄膜目前用于显示器行业的薄膜结构，可以使用 EllipsoStep 进行表征。
太阳能电池：替代能源是一个非常大的新兴市场，而椭圆偏光仪是开发下一代太阳能电池的关键工具。
石墨烯：人们对石墨烯等二维材料的新兴技术非常感兴趣。成像椭圆偏振仪是表征这些快速发展的技术的新工艺的宝贵工具。

示例测量

EllipsoStep 软件为测量和分析图案样品提供了一个方便的界面。测量完成后，操作员可以返回并测试图像中的不同区域。下面的示例显示了跨越两个不同区域的线扫描：一个在 Si 上有 95 nm 的 SiO2，另一个在 Si 上有天然氧化物。

下面的示例显示了在靠近基板边缘的大型溅射机上使用的荫罩角处的涂层厚度滚降。可以计算 2D 曲面图或 1D 线扫描。即使厚度因图像内的多个延迟级而异，EllipsoStep 也可以确定图像内任何位置的正确薄膜厚度。

凭借其 1 μm 的空间分辨率，EllipsoStep 可以直接测量表面粗糙度或厚度均匀性。

还可以同时测量测试元件组 (TEG) 内的多个区域。模式匹配例程可以自动识别图像中的元素，并自动将正确的椭圆配方应用于每个区域。

联系 Axometrics 讨论您的应用或提供用于演示测量的样品。 

参数

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