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加热用卤素灯泡
外延生长设备用卤素灯泡
在半导体制造过程中氧化硅晶片表面时用作加热的卤素灯泡。
其他用途
- RTP设备用卤素灯泡
- CVD设备用卤素灯泡等
与电热丝等加热器相比,它具有启动快、响应好、清洁、热能特性稳定等特点,是一种高效光源。
光学镜面滤镜
它可以控制波长
用于半导体制造过程中印刷电路图案时使用的曝光设备灯的波长控制。
光学镜是只反射特定波长的光而透射(或吸收)其他光的镜子。
与镜子相反,滤光器是一种仅透射特定波长的光并反射(或吸收)其他光的滤光器。
根据应用,有各种变化,例如冷镜、带通滤波器和分色镜。
- 细节:滤光镜
步进电机用超高压汞灯
一种长寿命、高稳定性的超高压汞灯,具有很强的紫外线强度。
作为半导体制造过程中印刷电路图案时曝光设备的灯,满足高品质的需求。
在半导体制造过程中,需要*大限度地进行超精细加工,对曝光设备的灯管制定了严格的标准。用于步进机的超高压汞灯在晶圆表面印刷电路时使用,因为它们可以长时间保持高照度,光束效率稳定,并且环保性**。
UV清洗/重整设备
使用短波紫外线的清洗/重整装置。
在半导体制造过程中,用于在处理硅片之前去除有机物质。

具有干式工艺、无真空系统、无损伤等特点,使用紫外线灯和照射装置的高功率照射装置可实现传统溶剂和超声波清洗难以实现的高质量、高速处理.
紫外线清洗
通过紫外线的作用产生的臭氧中分离出的活性氧的作用,将有机污染物分解、转化为挥发性物质并去除。
紫外线改性
被照射的有机物被紫外线照射使表层的化学键断裂,紫外线产生的从臭氧中分离出来的活性氧与断裂的表层分子结合,形成高度亲水的官能团. 转换为。
用于清洗和重整的低压汞灯
它发出 185 nm 和 254 nm 的紫外线。同时,它是一种将空气中的氧气转化为臭氧,去除(净化)有机物,修饰有机物表面的灯。
- 详细信息:清洗/重整系统
紫外线水处理系统
紫外线**水处理系统
极速**超纯水处理能力大
UV氧化水处理系统
大功率低压汞灯实现高效氧化分解
紫外线水处理系统用于对半导体制造工艺必不可少的超纯水进行**,以及去除废水回收和再利用系统中的有机物质。
超纯水的生产成本高昂,且经常大量使用,因此通常采用使用后回收、去除杂质、然后再处理的系统。UV氧化处理系统通过使用低压汞灯有效氧化分解超纯水生产系统中难以处理的低分子有机物杂质和各种工业废水中的有机物,实现了高速处理。
- 详情:**/**系统【水的**】
- 详细信息:净水系统