产品名称：功能齐全 重庆内藤销售 FE-3000 反射分光光度计 OTSUKA大塚電子

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• 它是一种可以测量多层薄膜厚度并通过反射光在紫外至近红外区域分析光学常数的干涉膜厚度计。
• 通过采用光谱学，可以以非接触，非破坏性，高精度测量具有高重现性的膜厚度。
• 它对应于很宽的波长范围（190 nm〜1600 nm）。
• 它对应于从薄膜到厚膜的广泛测量范围。（1nm至1mm）
• 通过测量微小斑点（*小φ3μm），它对应于具有图案和不均匀性的样本。

• **反射率测量
• 薄膜厚度分析
• 光学常数分析（n：折射率，k：消光米数）

• 功能性膜，塑料
  的透明导电膜（ITO，银纳米线），相位差膜，偏振膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP ，PC，PE，PVA， 胶，粘合剂，保护膜，硬外套，指纹等
• 半导体，化合物半导体
  Si，氧化膜，氮化膜，Resist，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，引线框架，SOI，蓝宝石等
• 表面处理的
  DLC涂层，防锈剂，防雾剂等
• 光学材料 
  镜头，过滤器，AR涂层等
• FPD
  LCD（CF，ITO，LC，PI，PS），OLED（有机膜，密封胶）等
• 其他
  硬盘，磁带，建筑材料等

使用大冢电子，光学干涉测量和我们自己的高精度分光光度计可实现非接触，无损，高速和高精度的薄膜厚度测量。光学干涉测量法是通过使用由使用如图1所示的分光光度计的光学系统获得的反射率来获得光学膜厚度的方法。例如，如图1所示，在金属基板上涂布膜的情况下，从目标试样的上方入射的光被膜（R1）的表面反射。而且，透过膜的光在基板（金属）或膜界面（R2）上反射。测量此时由于光程差引起的相移引起的光学干涉现象，并根据所获得的反射光谱和折射率计算膜厚度的方法称为光学干涉方法。有四种分析方法：峰谷方法，频率分析方法，非线性*小二乘法和优化方法。